1、受培训场地限制，每门课程限20人线下参加（按报名顺序，其他人员可welink远程参加）；
2、每人每月限报2门课程，同一门课程申请参训人员较多的，择机重新开课；
3、报名截止8月3日下班前，课程报名人数不足5人的，当月不开课；
4、报名后无故未参训的，当月不得再参加其他线下培训（不能参加培训的应走请假流程）；
5、请大家积极思考，带着问题参训，在培训过程中验证以往的认知，以增强培训效果，后期将会进行考试；
6、请参训人员提前5分钟到场，培训期间请保持手机静音或震动，请勿接打电话或随意走动。
课程计划：
1.DP工作流介绍——苑光明（8月4日 17：15—18：15）
2.Lithography Wafer Process——蔡仁麒（8月11日 17：15—18：15）
3.Writer process and tool introduction——刘琳娜（8月18日 17：15—18：15）
4.Etch process and tool introduction——谢彤彤（8月25日 17：15—18：15）
Welink ID：933 684 272
Code：123456
主要内容：
1.Mask Order and Data Transfer Flow
2.DIM 流程
3.DATA 制作流程
4.光罩描画数据的验证流程
讲师：苑光明
开课时间：2022年8月4日 17：15——18：15
培训地点：A02会议室
主要内容：
1.What’s the position of Reticle in optical lithography and NGT
2.Lithography Process in the foundry chip
3.Introduction for exposure tool and application in the state-of-the art lithography dep
讲师：蔡仁麒
开课时间：2022年8月11日 17：15——18：15
培训地点：A02会议室
主要内容：
1.Introduce
2.Principle
3.Operation
4.POR Tune
讲师：刘琳娜
开课时间：2022年8月18日 17：15——18：15
培训地点：A02会议室
主要内容：
1.Dry etch
2.Etching equipment and materials
讲师：谢彤彤
开课时间：2022年8月25日 17：15——18：15
培训地点：A02会议室
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